中国光谷宣布,光谷企业在半导体专用光刻胶领域实现巨大突破。据介绍,武汉太紫微光电科技有限公司推出的T150 A光刻胶产品,已通过半导体工艺量产验证,实现配方全自主设计,有望开创内地半导体光刻制造新局面。据悉,T150 A对标国际龙头企业主流KrF光刻胶系列,在光刻工艺中表现出的极限分辨率达到120nm,且工艺宽容度更大,稳定性更高,坚膜後烘留膜率优秀,其对後道刻蚀工艺表现更为友好。通过验证发现,T150 A中密集图形经过刻蚀,下层介质的侧壁垂直度表现优异。(ta/w)