11月28日｜上海微電子裝備（集團）股份有限公司今日公開了其最新的光刻機相關專利。據天眼查顯示，上海微電子公開的專利名為“投影物鏡光學系統及光刻機”。該專利摘要顯示，本發明提供了一種投影物鏡光學系統及光刻機，所述投影物鏡光學系統沿其光軸方向從物面到像面依次包括：第一透鏡組、第二透鏡組、光闌、第三透鏡組與第四透鏡組。其中，所述第三透鏡組與所述第二透鏡組關於所述光闌對稱，所述第四透鏡組與所述第一透鏡組關於所述光闌對稱，所述投影物鏡光學系統是對稱結構，且所述投影物鏡光學系統中所有的透鏡組均具有正光焦度，以此可以在提高成像質量的基礎上，增大曝光系統的視場尺寸，提升產率。從上海微電子的主要股東信息來看，A股上市公司上海電氣持有公司42.3%的股份，張江高科全資子公司上海張江浩成創業投資有限公司持有公司14.21%股份。
新聞來源 (不包括新聞圖片): 格隆匯