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ASML供应商蔡司：中国在开发EUV光刻机落後15年
2026-09-03 10:12:19 德国蔡司集团(Zeiss Group)半导体部门负责人Frank Rohmund表示，中国在开发极紫外(EUV)光刻机方面落後大约15年，但承认很难量化中国的发展。 蔡司是ASML(ASML.US)EUV光刻机光学元件的独家供应商， EUV技术对於生产Nvidia(NVDA.US)最先进晶片是至关重要。此前有消息指，中国在生产上一代深紫外线(DUV)光刻机方面取得进展。Rohmund表示，任何将出口管制扩大至包括旧款DUV机型的措施都对业务不利，不相信这些出口限制会带来正面效果，因为这只会加快中国的技术创新。 他又称，中国研究DUV技术已有数十年历史，即使成功生产相关设备亦不令人意外，但有需要观察这些光刻机的实际能力，强调ASML仍保持大幅领先优势。(mn/u)~ 阿思达克财经新闻 网址: www.aastocks.com | |