2月27日|荷蘭光刻設備製造商阿斯麥高管表示,公司新一代極紫外光刻機已準備就緒,芯片製造商可開始將其用於大規模生產。該設備單價約4億美元,為初代EUV機型的兩倍。阿斯麥首席技術官馬爾科·皮特斯稱,該設備已累計加工約50萬片硅晶圓,停機時間極低,圖案精度達到量產標準。